Микроволновый плазменный реактор ARDIS 100 предназначен для осаждения из газовой фазы поли-, моно- и нанокристаллических алмазных пленок, а также углеродных нанотрубок для различных сфер применения.

Выращивание алмазов методом осаждения из газовой фазы позволяет получить алмазные пленки недоступных ранее размеров, особой чистоты, обладающие уникальным набором электронных, оптических, тепловых, механических свойств. Это обусловливает их востребованность и огромные перспективы для применения в таких отраслях как электроника, оптика, СВЧ-техника, микромеханика, обработка материалов, электрохимия.

http://www.cvd-diamond.ru/

Применения:

- инструмент с алмазным покрытием
- пластины для режущих вставок, гребенок и пр
- оптика ИК и миллиметрового диапазона
- теплоотводящие подложки для электронных приборов, полупроводниковых лазеров
- детекторы ионизирующего излучения
- элементы микроэлектромеханики
- биосенсоры, биосовместимые покрытия

Основные параметры реактора:

- Максимальная мощность СВЧ источника – 5 кВт, частота 2,45 ГГц.
- Количество независимых газовых каналов – 4.
- Реакционные газы: CH4, H2 (O2, Ar, N2, CO2 дополнительно).
- Рабочее давление газа в камере – 20 – 120 Торр.
- Максимальный диаметр подложки – 75 мм.
- Температура подложки – 700 – 1200^oС (контроль с помощью пирометра).
- Скорость осаждения алмаза - 1-8 мкм/час.
- Визуальный контроль - 5 кварцевых окон.
- Водоохлаждаемая вакуумная камера из нержавеющей стали.
- Управление от промышленного компьютера.